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China bajo tensión con Estados Unidos.
Científicos del Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, dirigidos por Lin Nan, lograron construir una fuente de luz ultravioleta extrema (EUV) con parámetros competitivos a nivel internacional, esto representa un avance en la construcción de circuitos electrónicos avanzados.
Lin Nan, había trabajado en Países Bajos, en la compañía ASML, fabricante de microchips avanzados, quien tenía la única maquina EUV en el mundo, la cual tienen prohibido vender a China por controles de exportación del Departamento del Comercio de EE.UU. y otras regulaciones.
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Este nuevo laser de China presenta ventajas sobre el europeo, siendo menos voluminoso, tienen mayor eficiencia eléctrica y son menos costosos de operar.
Estos nuevos láseres podrán sustituir los actuales en el futuro, todavía están en fase experimental.
Fuente: RT EN ESPAÑOL